1.SEMI-SHIELD 공법의 개요
  SEMI-SHIELD 공법은 도시기반시설인 상하수도, 전기 통신선로, 가스관 등의 확보를 위해 종래의 개착식 공법으로 시공시 발생하는 소음, 분진, 지반침하, 교통장애 및 환경공해 등을 최소화하기 위하여 개발한 공법이다.
본 공법은 작업구내에 굴진기(SEMI-SHIELD MACHINE)라는 강재 원통형의 굴착기계를 수직작업구에 투입시켜 기계선단부에 장착되어 있는 토사 굴착용 CutterHead를 회전시키면서 지반을 굴착하고 막장면을 각종 보조공법으로 막장면의 붕괴를 방지하면서 SEMI-SHIELD 기계 후방부에 추진관을 유압잭크로 압입 추진하면서 설치하는 것을 반복하는 작업으로 Tunnel을 굴착하는 공법이다.

2. 이토압식 GIP공법의 특징

  밀폐기계식 굴진기의 CHAMBER 내에 굴착토사 또는 굴착토사와 첨가재의 혼합토사를 충만시켜 굴착면의 토압 및 수압에 대응하는 압력을 유지하여 막장면의 안정을 꾀하는 동시에 Chamber 내의 충만한 토사는 Screw Conveyor에 의해 배토되면서 발진입갱내 관체후부의 Jack에 의해 관을 연속적으로 추진하는 공법으로 1단계의 그라우팅으로 그치는 기존 이토압식의 공법의 미비점을 보완하기 위해 GIP 노즐을 부착한 접속관의 2단계 그라우팅으로 지반침하 및 공극을 최대한 채워줄수 있도록 개발된 공법이다.

                 
                                               <이토압식 GIP추진공법의 기계배치도>

3. 추진공법별 비교